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[KO] 전기화학적 분석을 위한 초미세전극 및 이의 제조방법

[EN] ULTRA-MICRO ELECTRODE FOR ELECTROCHEMICAL ANALYSIS AND MANUFACURING METHOD THEREOF

출원번호 10-2022-0151277 출원일 : 2022.11.14
등록번호 10-2787902-0000 등록일 : 2025.03.24
법적상태
- 등록
- 소멸

Contact point

동아대학교 산학협력단 기술사업화팀 김기연 051 - 200 - 6534 kky1216@dau.ac.kr

출원인

구분	이름	국적	주소
1	동아대학교 산학협력단	국적 : 대한민국	주소 : 부산광역시 사하구...

발명자

구분	이름	국적	주소
1	이효종	국적 :	주소 : 부산광역시 해운대구...
2	김정한	국적 :	주소 : 경상남도 창원시 성산구...
3	조영준	국적 :	주소 : 부산광역시 사하구...
4	송유진	국적 :	주소 : 부산광역시 북구...
5	신한균	국적 :	주소 : 경상남도 창원시 의창구...

대리인

구분	이름	국적	주소
1	전용철	국적 : 대한민국	주소 : 부산광역시 동래구 충렬대로 **-(온천동) 층(마이스타*특허법률사무소)

요약

본 발명은 전기화학적 분석을 위한 초미세전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명의 일면에 따른 전기화학적 분석을 위한 초미세전극의 제조방법은 길이 방향을 따라 중공이 형성된 절연부재를 준비하는 단계; 전도성와이어를 준비하는 단계; 상기 절연부재의 중공에 상기 전도성와이어를 삽입하는 단계; 상기 전도성와이어가 삽입된 상기 절연부재에 열과 외력을 인가하여 상기 절연부재와 상기 전도성와이어를 연신시켜 네킹이 형성되도록 하고, 상기 네킹이 형성된 부분의 파단이 이루어지도록 하여 반제품을 제조하는 단계; 상기 반제품의 파단면 측에 위치한 상기 전도성와이어를 식각하여 소정 깊이를 갖는 홈을 형성하는 단계; 및 도금을 이용해 상기 홈을 전도성 물질로 매립하여 매립층을 형성하는 단계;를 포함한다.

IPC

G01N 27/30(2006.01.01)
C25D 5/02(2006.01.01)
C25D 5/48(2006.01.01)
C23C 18/16(2006.01.01)
B24B 9/04(2006.01.01)

CPC

G01N 27/30(2013.01)

C25D 5/02(2013.01)

C25D 5/48(2013.01)

C23C 18/1603(2013.01)

C23C 18/1689(2013.01)

B24B 9/04(2013.01)

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대리인

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CPC

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